至純科技S300D 12寸單片式清洗設備成為“2025年度上海設計100+全球競賽正式入選項目”。2025年9月25日-9月28日，至純科技參與由上海市人民政府主辦，聯(lián)合國教科文組織聯(lián)合主辦的2025世界設計之都大會（WDCC2025），在主會場與閔行分會場展出設備模型并參與活動。
至純科技董事長蔣淵女士受邀參與閔行分會場圓桌交流環(huán)節(jié)，圍繞“設計無界 生態(tài)智造”的主題，結合企業(yè)的實踐，分享了綠色生態(tài)設計在政策響應、技術研發(fā)、產(chǎn)品創(chuàng)新、綠色建造等方面的具體舉措與成效。綠色設計已成為企業(yè)提升競爭力、實現(xiàn)可持續(xù)發(fā)展的關鍵抓手。
“上海設計100+”全球競賽是挖掘全球設計力量、展示優(yōu)秀設計成果的前沿風向標，是培育設計人才、孕育設計企業(yè)的創(chuàng)新孵化器，也是上海深化一流設計之都建設的重要窗口。通過設計鑄造城市品牌、設計賦能產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新、設計優(yōu)化公共服務、設計打造城市空間、設計點亮美好生活五個方面，持續(xù)打造“設計創(chuàng)新型城市”典范，探索設計高質量發(fā)展之路。
至純科技此次入選的S300D 12寸單片式清洗設備，憑借其卓越的工藝設計、領先的技術創(chuàng)新以及對綠色制造理念的深度踐行，為半導體制造行業(yè)帶來了創(chuàng)新性的工藝解決方案,體現(xiàn)了公司在半導體裝備領域的設計實力與品牌影響力。該設備專為滿足先進制程需求而設計，以SPM工藝為技術藍本，通過創(chuàng)新的4tower*3 chamber架構，實現(xiàn)了對當前80%工藝需求的全面覆蓋。其設計理念遵循高效性和精確性的原則，旨在為半導體制造企業(yè)提供更可靠的清洗解決方案。
S300D采用了多項創(chuàng)新設計。在腔體潔凈能力方面，通過將腔室有效體積縮小2/3，并搭配高效遮擋板設計，設備實現(xiàn)了換氣率提升一倍的顯著效果。全密封腔室與封閉式bowl設計的結合，有效避免了化學品交叉污染問題。配合ACC自動清潔功能進一步加強設備的自潔凈能力。
在藥液排放與回收方面，其設計體現(xiàn)了“精確控制”的設計理念。通過多層結構分離氣液流動的設計，設備能夠選擇指定藥液回收與排放層，配合工藝配方，實現(xiàn)精準排放回收。這種設計大幅減少了化學品浪費，體現(xiàn)了對資源高效利用的追求。另外其管路布局基于流速最優(yōu)與溫損最小化原則重構，進一步提升了排液及chamber match效率，為工藝穩(wěn)定性和一致性提供了有力保障。
S300D設備是工業(yè)極致需求的專業(yè)設備，同時引入了工業(yè)設計美學，美感設計上充分論證和設計。
至純科技將繼續(xù)秉持“專注、創(chuàng)新、卓越”的發(fā)展理念。創(chuàng)新驅動、精益制造，以技術為根基，持續(xù)加大研發(fā)投入。積極參與產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)作，助力中國半導體產(chǎn)業(yè)實現(xiàn)更高質量、更可持續(xù)的發(fā)展。至純科技也將依托上海作為“世界設計之都”的平臺優(yōu)勢，推動工業(yè)設計與高端制造深度融合，以更具前瞻性的產(chǎn)品解決方案，為客戶創(chuàng)造長期價值，致力于成為領先的半導體裝備與工藝服務提供商。